轉讓日本光弛2350鍍膜機 

1.標配參數：單槍、 離子源、 晶控、23公分的射頻源、 熱阻蒸、 頂部側部加熱、 兩個擴散泵、一個螺絲泵、一個機械泵

2.特征：磁密封驅動的基板旋轉式可得到穩定和均勻的膜厚分布

3.配備：配備RF離子源以提高膜的耐摩擦性；用于防污膜（AS 膜）批量生產；防污膜（AS 膜）批量生產。

4.性能：達到壓強7.0E-5Pa以下

5.配置參數：

真空室 Ф2350mm×H 1400mm

基板架 Ф2200 mm

基板架轉速 20rpm

晶振式膜厚計 6點式⽔晶傳感器

蒸發源 電⼦槍1臺，熱阻蒸

達到壓強 7.0E-5Pa 以下

排強時間 15分以下（壓強〜2.0×10-3 Pa）

6.工作條件：

設備尺寸 約6300mm (W)×9000mm (D) ×4000mm (H)

電源 3相,200v,50/60Hz,約80KVA

水流量 220升/分以上

空氣壓力 0.5-0.7mpa

重量 約12000kg